极紫外光刻新技术问世  

出　　处：《电子质量》2024年第8期75-75,共1页Electronics Quality

摘　　要：据报道,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST:Okinawa Institute of Science and Technology Graduate University)设计了一种极紫外(EUV:Extreme Ultra-Violet)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的1/10,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。

关 键 词：半导体制造业 极紫外光刻 光刻设备 光刻技术 日本冲绳 EUV光刻 降低成本 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]