一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现  

A Study on SPLAT Based Imaging Algorithm for Off-axis Illumination and Its Implementation

作　　者：付萍[1] 王国雄[2] 史峥[3] 陈志锦[3] 严晓浪[3] 

机构地区：[1]东华理工学院信息工程系,江西抚州344000 [2]鞍山科技大学电子与信息工程学院,辽宁鞍山114002 [3]浙江大学超大规模集成电路设计研究所,浙江杭州310027

出　　处：《微电子学》2003年第3期180-183,共4页Microelectronics

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60176015)

摘　　要：　如何提高光刻的分辨率已成为超深亚微米集成电路设计和制造的关键技术。文章简要介绍了分辨率提高技术之一的离轴照明的原理及其构造形式,介绍了部分相干的二维透射系统的仿真程序SPLAT的特点,并用SPLAT实现了一种新的照明结构,为实际开发光学邻近校正(OPC,OpticalProximityCorrection)仿真工具增加了新的功能。The principle of offaxis illumination (OAI) and its configurations are presented in the paper And the characteristics of the simulation routine SPLAT, which simulates twodimensional projection printing with partial coherence, are also describedBased on SPLAT, a new configuration of offaxis illumination has been implemented, which was used in developing practical simulation tools for optical proximity correction (OPC) to add new functions

关 键 词：光刻 深亚微米IC工艺 离轴照明 光学邻近校正 集成电路 SPLAT 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TN405