SOI技术的新进展  

New progress in SOI technology

作　　者：林成鲁[1,2] 

机构地区：[1]中科院上海微系统与信息技术研究所 [2]上海新傲科技有限公司,上海201821

出　　处：《半导体技术》2003年第9期39-43,共5页Semiconductor Technology

摘　　要：综述了SOI技术的发展历程,SOI的主流技术,SOI技术发展的新动向,SOI技术的应用进展,并介绍了上海微系统与信息技术研究所和上海新傲科技有限公司的SOI研发和产业化情况。This subject is a review of new progress of silicon on insulator (SOI)technology. The development history, the main SOI technologies, the new fabrication meth-ods and their applications are discussed. The status of R&D on SOI technology in ShanghaiInstitute of Microsystem and Information Technology and Shanghai Simgui Technology Co.Ltd are reported.

关 键 词：SOI技术 绝缘层上硅 离子注入 注氧隔离 薄层转移 硅集成电路 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学] TN305