国家高技术研究发展计划(2009AA03Z418)

作品数：3被引量：7H指数：2
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相关作者：刘文王磊周宁王定理徐智谋更多>>
相关机构：华中科技大学武汉光迅科技股份有限公司光纤通信技术和网络国家重点实验室武汉大学更多>>
相关期刊：《微纳电子技术》《光学精密工程》《激光与光电子学进展》更多>>
相关主题：纳米压印半导体激光器干法刻蚀技术湿法腐蚀边模抑制比更多>>
相关领域：电子电信更多>>
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用于分布反馈光栅的纳米压印模板制作被引量：2
《光学精密工程》2011年第11期2731-2735,共5页王定理 刘文 周宁 徐智谋 
国家863高技术研究发展计划资助项目(No.2009AA03Z418)
高质量、低成本的压印模板的获得是采用纳米压印技术制作分布反馈光栅的难点,本文采用双层金属掩模及lift-off金属剥离方法制作了适用于紫外压印技术的石英基压印模板。首先,采用电子束光刻技术在镀钛的石英基片表面直写出DFB光栅的光...
关键词：纳米压印 压印模板 分布反馈光栅 
纳米压印λ/4相移分布反馈激光器的单模稳定性被引量：1
《激光与光电子学进展》2011年第1期96-99,共4页周宁 李林松 曹明德 王定理 王磊 刘文 李洵 
国家863计划(2009AA03Z418)资助课题
利用沿谐振腔体的一维数值模型着重研究了采用纳米压印技术制作的λ/4相移光栅分布反馈半导体激光器(QPS-DFB-LD)的光谱特性对谐振腔体参数的依赖性。通过将理论计算的结果与实测光谱对照,抽取了用于理论计算的QPS-DFB-LD模型参数。计...
关键词：激光器 模式稳定性 λ/4波长相移 纳米压印 分布反馈 光谱 边模抑制比 面反射 
纳米压印制作半导体激光器的分布反馈光栅被引量：4
《微纳电子技术》2010年第1期56-59,共4页王定理 周宁 王磊 刘文 徐智谋 石兢 
国家863资助项目(2009AA03Z418)
分布反馈(DFB)光栅的制作是半导体激光器芯片的关键工艺,通过纳米压印技术在InP基片表面涂覆的光刻胶上压印出DFB光栅图形,并分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀技术将光栅图形转移到InP基片上。所制作的DFB光栅周期为240nm(对应于1 550nm波长...
关键词：纳米压印 半导体激光器 分布反馈光栅 相移型光栅 干法刻蚀技术 湿法腐蚀 
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