ETCH

作品数：54被引量：55H指数：4
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The investigation of DARC etch back in DRAM capacitor oxide mask opening被引量：1
《Journal of Semiconductors》2021年第7期88-92,共5页Jianqiu Hou Zengwen Hu Kuowen Lai Yule Sun Bo Shao Chunyang Wang Xinran Liu Karson Liu 
Opening the silicon oxide mask of a capacitor in dynamic random access memory is a critical process on a capacitive coupled plasma(CCP)etch tool.Three steps,dielectric anti-reflective coating(DARC)etch back,silicon ox...
关键词：dynamic random access memory(DRAM) oxide mask open of capacitor capacitive coupled plasma(CCP)etch dielectric anti-reflective coating(DARC) etch back(EB) 
SU8 etch mask for patterning PDMS and its application to flexible fluidic microactuators被引量：4
《Microsystems & Nanoengineering》2016年第1期101-105,共5页Benjamin Gorissen Chris Van Hoof Dominiek Reynaerts Michael De Volder 
BG is a Doctoral Fellow of the Research Foundation—Flanders(F.W.O.),Belgium.MDV acknowledges support from the ERC starting grant HIENA(no.337739).
Over the past few decades,polydimethylsiloxane(PDMS)has become the material of choice for a variety of microsystem applications,including microfluidics,imprint lithography,and soft microrobotics.For most of these appl...
关键词：PDMS lithography SU8 etch mask MICROACTUATOR bending actuator fluidic actuator 
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