亚表面

作品数：286被引量：874H指数：14
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硬X射线光电子能谱在半导体材料和器件中的应用
《半导体技术》2024年第6期505-513,共9页宋华平 杨安丽 
广东省自然科学基金面上项目(2022A1515012628)。
与常规X射线光电子能谱(XPS,能量E<2 keV))相比,硬X射线光电子能谱(HAXPES)由于采用较高能量的X射线(E>2 keV),具有更大的探测深度,已经成为研究复杂材料体系的体性质,以及多层薄膜结构和纳米复合结构界面性质的重要分析工具。简要论述...
关键词：硬X射线光电子能谱(HAXPES) 硬X射线光电子衍射 半导体材料和器件 能带结构 亚表面性质 
不同速度下砷化镓纳米划擦中表面与亚表面损伤机理研究
《建模与仿真》2024年第3期3899-3910,共12页黄浩 
为了进一步改进砷化镓激光器谐振腔面的制造技术,采用分子动力学方法模拟了砷化镓激光器的刻划过程。生成了不同取向的GaAs晶体模型,包括GaAs[100]、GaAs[110]和GaAs[111],并对这些模型进行了不同加工速度下的划痕模拟。基于仿真结果,...
关键词：砷化镓 分子动力学 各向异性 表面/亚表面损伤 
脉冲放电驱动磨料流辅助磨削单晶碳化硅研究
《机械工程学报》2024年第9期383-392,共10页陈钊杰 谢晋 刘军汉 熊长新 李迪帆 
国家自然科学基金(51975219,52375493);广东省基础与应用基础研究基金(2022A1515220053)资助项目。
单晶碳化硅作为半导体材料,其被加工表面及亚表面质量直接影响到电、磁、光等工作性能,但在高精度的机械加工中,纳米切深的不可控和高速主轴转动的刀具端跳会产生不稳定的切削力,导致表面微毛刺和改性层以及亚表面残余应力和损伤。因此...
关键词：亚表面损伤 残余应力 单晶碳化硅 脉冲放电 磨料流加工 
氧化镓单晶的磨削材料去除机理和损伤演化研究
《湖南大学学报（自然科学版）》2024年第4期10-19,共10页杨鑫 康仁科 任佳伟 李天润 高尚 
国家重点研发计划资助项目(2022YFB3605902);国家自然科学基金资助项目(51975091,51991372)。
为了探究氧化镓单晶在磨削过程中材料去除机理和亚表面损伤演化规律,通过变切深纳米划痕试验模拟单颗磨粒去除材料的过程来探究磨削过程中的材料去除机理,使用粒度分别为SD600、SD1500和SD5000的金刚石砂轮对氧化镓单晶进行磨削试验,分...
关键词：半导体材料 磨削 氧化镓单晶 纳米划痕 亚表面损伤 
石英玻璃亚表面微裂纹的偏振激光散射检测方法被引量：1
《光学精密工程》2023年第14期2031-2039,共9页吕启鑫 石芳媛 白倩 蒋效雄 姜丽丽 
国家重点研发计划资助项目(No.2022YFB3403602)。
石英玻璃等光学硬脆材料在加工过程中不可避免地产生亚表面微裂纹,从而对光学元件的使役性能具有显著影响。因此,石英玻璃亚表面微裂纹的无损检测对于优化石英玻璃加工工艺进而提高加工质量具有十分重要的意义。提出了基于偏振激光散射(...
关键词：偏振激光散射 亚表面微裂纹 压痕 研磨 石英玻璃 
YAG晶体研磨工艺与研磨后亚表面损伤研究被引量：1
《硅酸盐学报》2023年第3期767-774,共8页马荣国 张庆礼 高进云 孙贵花 窦仁勤 韩松 张瑞 陈照 王小飞 张德明 孙彧 刘文鹏 
国家自然科学基金(51802307);先进激光技术安徽省实验室开放研究基金项目(AHL20220ZR04,AHL2021KF07);安徽省科技重大专项项目(202203a05020002)。
YAG晶体是一种典型硬脆材料,莫氏硬度达8.5,常温下不溶于任何酸碱,加工难度较大。针对YAG晶体研磨加工,本工作提出一种分步研磨工艺。基于游离磨料研磨的方法,在研磨过程中逐级减小碳化硼(B4C)磨料粒径,选用磨料W40、磨料W28、磨料W14...
关键词：钇铝石榴石晶体 研磨 亚表面损伤 材料去除率 表面粗糙度 
单晶硅纳米磨削亚表面损伤形成机制及其抑制研究被引量：5
《制造技术与机床》2023年第3期24-30,共7页田海兰 韩涛 闫少华 易红星 闫海鹏 
河南省高等学校重点科研项目(22B460024);河北省自然科学基金项目(E2021208004);河北省教育厅青年基金项目(QN2021061)。
硅晶圆纳米磨削过程中产生的亚表面损伤限制了其使用寿命,亟需研究纳米磨削过程中单晶硅的亚表面损伤形成机制和抑制方法。文章首先建立了单晶硅纳米磨削的分子动力学仿真模型,研究其亚表面损伤形成机制。随后研究了磨削参数对磨削过程...
关键词：分子动力学 单晶硅 纳米磨削 亚表面损伤 磨削参数 
湿式机械化学磨削单晶硅的软磨料砂轮及其磨削性能被引量：4
《机械工程学报》2023年第3期328-336,共9页张瑜 康仁科 高尚 黄金星 朱祥龙 
国家自然科学基金(51975091,51735004,55991372);国家重点研发计划(2018YFB12018041);江苏省精密与微细制造技术重点实验室基金资助项目
针对干式机械化学磨削(Mechanical chemical grinding,MCG)单晶硅过程中易产生磨削烧伤、粉尘多、加工环境差等问题,研制一种可用于湿式MCG单晶硅的新型软磨料砂轮,并对砂轮的磨削性能及其磨削单晶硅的材料去除机理进行研究。根据湿式...
关键词：机械化学磨削 硅片 软磨料砂轮 表面粗糙度 亚表面损伤 
基于分子动力学的GaN纳米磨削亚表面损伤形成机制被引量：2
《微纳电子技术》2022年第12期1368-1374,1382,共8页吴珍珍 刘一扬 韩涛 王东霞 翟会丽 闫海鹏 
河北省自然科学基金资助项目(E2021208004);河北省教育厅青年基金资助项目(QN2021061)。
纳米磨削技术是实现Ga N晶体低损伤加工的超精密加工方法之一,但纳米磨削过程中Ga N的亚表面损伤形成机制仍不清楚。同时,磨削深度作为典型的工艺参数之一,其对Ga N亚表面损伤的影响也鲜有报道。通过分子动力学模拟来研究Ga N纳米磨削...
关键词：氮化镓(GaN) 分子动力学 纳米磨削 亚表面损伤 塑性变形 磨削深度 
光学元件亚表面缺陷表征与检测技术研究现状分析(特邀)被引量：1
《红外与激光工程》2022年第12期211-233,共23页李凌众 王孝坤 戚二辉 彭利荣 于鹏亮 苏航 刘忠凯 王晶 罗霄 张学军 蔡铭宣 
吉林省重点研发计划(20200401065GX);国家自然科学基金(62127901)。
光学元件常用脆性材料作为原材料,脆性材料加工过程中极易引入亚表面缺陷,亚表面缺陷对脆性材料的制造阶段和应用阶段均存在严重的危害。制造方面,亚表面缺陷影响工序的选择与衔接,易产生过加工、欠加工等问题,导致加工效率低下;应用方...
关键词：光学元件 亚表面缺陷 缺陷形成机理 亚表面缺陷表征 破坏性检测方法 非破坏性检测方法 
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