等离子体淀积

作品数：10被引量：6H指数：2
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激光等离子体淀积硅薄膜过程动力学研究被引量：3
《Journal of Semiconductors》1989年第4期280-285,共6页董丽芳 傅广生 李晓苇 韩理 张连水 吕福润 
国家自然科学基金
采用强TEA CO_2脉冲激光辐照SiH_4/H_2系统,对SiH_4激光等离子体淀积硅膜进行了研究,测量了膜淀积及膜性能随淀积条件的变化关系.同时采用光学发射光谱、光声激光偏转方法对其基本的微观和宏观动力学过程进行了研究,在此基础上初步建立...
关键词：激光 等离子体 淀积 硅薄膜 动力学 
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