等离子体淀积

作品数：10被引量：6H指数：2
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采用磁桶和同心等离子体源及材料源的等离子体淀积方法及设备
《表面技术》2006年第6期50-50,共1页
将导电金属涂敷材料从磁控溅射靶上溅射出来，利用带有射频能量的高密度等离子体使溅射出的导电金属涂敷材料在真空处理空间内离子化，射频耦合能量来自线圈，线圈位于真空室外面、绝缘窗后面，真空室壁面上的绝缘窗位于溅射靶的开口的...
关键词：等离子体淀积 等离子体源 磁控溅射靶 高密度等离子体 设备 料源 涂敷材料 等离子体密度 
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