等离子体刻蚀

作品数：172被引量：335H指数：8
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ICP工艺原理与故障分析被引量：6
《电子工业专用设备》2020年第1期50-54,共5页曹健 郝晓亮 王秀海 
介绍了ICP工艺的特点、工艺原理,以及设备的基本结构。根据多年的设备维护经验,分析了ICP设备的常见故障及其起因,提出了处理措施;分析总结了影响ICP工艺质量的主要因素。
关键词：等离子体刻蚀 感应耦合等离子(ICP) 故障分析 工艺维护 
逐层刻蚀工艺在半导体器件制造中的应用
《电子工业专用设备》2018年第6期10-11,共2页张轶铭 刘利坚 
在常规的等离子体刻蚀基础上,介绍了一种基于循环方式的逐层刻蚀方法及进一步改善的方案,可以有效解决常规等离子体刻蚀的深宽比相关效应,提高刻蚀选择比,降低刻蚀粗糙度和损伤。
关键词：等离子体刻蚀 逐层刻蚀 刻蚀损伤 
中微28~15nm等离子体刻蚀机荣获工博会金奖蝉联工博会奖项,彰显十年发展成果
《电子工业专用设备》2014年第11期69-69,共1页
中微半导体设备有限公司(简称"中微")日前宣布在举办的第十六届中国国际工业博览会上荣获金奖。这一奖项彰显了中微10年来在先进技术自主创新方面取得的可喜成绩。中微此次获奖产品是其处于行业领先地位的去耦合等离子体介质刻蚀机Primo...
关键词：工博会 nm 等离子体刻蚀 工业博览会 半导体设备 获奖产品 行业领先地位 芯片制造 第二年 MOCVD 
刻蚀设备在太阳能晶硅电池刻蚀工艺中的应用被引量：1
《电子工业专用设备》2013年第8期26-29,共4页杨金 郭进 魏唯 万喜新 李佳 
介绍了激光划线设备在太阳能电池中的应用。与传统等离子体刻蚀设备对比,从设备结构,工艺原理,试验测试等方面做了深入的分析,并从理论角度分析得出激光刻蚀具备效率损失小,能够提高电池片的转换效率的优点,同时用实验验证了激光划片设...
关键词：激光刻蚀 等离子体刻蚀 太阳能 硅片电池 
0.13μm铜连线技术中的双镶嵌刻蚀工艺中的电荷效应研究(英文)
《电子工业专用设备》2003年第6期13-15,25,共4页吴汉明 邝亚镭 
在0.13μm铜连线技术节点上,双镶嵌等离子体刻蚀的优化是最具有挑战性的问题之一。通过理论模型分析和实验对双镶嵌结构的刻蚀技术进行了研究。解释了等离子体电荷累积过程。提出了一个简化的模型并进行了定性的计算。模型和实验的结果...
关键词：0.13μm铜连线 双镶嵌 等离子体刻蚀 
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