等离子体损伤

作品数:15被引量:18H指数:2
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相关作者:郝跃唐瑜王守国胡顺欣邓建国更多>>
相关机构:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海华力微电子有限公司上海华虹宏力半导体制造有限公司中芯国际集成电路制造(北京)有限公司更多>>
相关期刊:《固体电子学研究与进展》《Journal of Semiconductors》《电子与封装》《微电子学》更多>>
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一种测试等离子体损伤的新方法被引量:1
《微电子学》2007年第5期768-770,共3页徐政 孙锋 李冰 
开发了一种用于评估等离子体损伤的测试方法。利用电流流经氧化层时会在氧化层产生缺陷,从而导致隧道电流降低的原理,通过测量氧化层的隧道电流,来评估工艺制造过程中等离子体对介质造成的损伤。测量结果用气泡图表示,气泡面积表示隧道...
关键词:半导体工艺 氧化层 等离子体损伤 隧道电流 
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