低温多晶硅

作品数：155被引量：74H指数：5
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空气产品公司与天马微电子新签供气合同
《现代显示》2012年第7期52-52,共1页
空气产品公司,作为全球领先的工业气体和功能材料供应商,5月30日宣布已与厦门天马微电子有限公司签署了一项长期合同,将在厦门火炬（翔安）产业园区建造制氮工厂,向厦门天马位于该产业园区的中国首条第5.5代低温多晶硅（LTPS）TFT-LCD...
关键词：供气合同 微电子 产品 空气 工业气体 产业园区 彩色滤光片 低温多晶硅 
AM-OLED的像素电路集锦(二)被引量：3
《现代显示》2011年第6期11-19,共9页应根裕 
用于AM-OLED的LTPS TFTs的阈值电压(Vth)和沟道迁移率(μ)在空间分布上是不够均匀的,用于AM-OLED的a-Si TFTs的Vth和μ会随时间偏移,这些缺点会造成显示屏亮度的不均匀性和不稳定性。为此,需要引入各种像素补偿电路,使显示屏发光亮度的...
关键词：有源矩阵有机发光二极管显示器 低温多晶硅 非晶硅 薄膜晶体管 像素电路 
AM-OLED的像素电路集锦(一)被引量：4
《现代显示》2011年第5期11-21,共11页应根裕 
用于AM-OLED的LTPS TFTs的阈值电压(Vth)和沟道迁移率(μ)在空间分布上是不够均匀的,用于AM-OLED的a-Si TFTs的Vth和μ会随时间偏移,这些缺点会造成显示屏亮度的不均匀性和不稳定性。为此,需要引入各种像素补偿电路,使显示屏发光亮度的...
关键词：有源矩阵有机发光二极管显示器 低温多晶硅 非晶硅 薄膜晶体管 像素电路 
面板过剩友达奇美转产0LED、电子纸
《现代显示》2010年第10期57-58,共2页
台湾媒体报道，业界消息称，为了缓解中小尺寸面板供货过剩的局面，友达、奇美和中华映管都纷纷将其部分中小面板生产转移到了OLED、电子纸和触摸面板的生产上。友达已经将其3．5代低温多晶硅生产线用于AMOLED面板的生产，三季度末完成...
关键词：触摸面板 电子纸 OLED面板 转产 低温多晶硅 生产线 小尺寸 
综述:低温多晶硅技术被引量：6
《现代显示》2010年第10期5-7,共3页Jenny Donelan 张晓晋 
低温多晶硅技术是有源矩阵LCD领域的一项关键技术,它的未来会怎样,而目前它是否又得到了充分应用呢?此文章将解答这些问题。
关键词：非晶硅 多晶硅 低温多晶硅 
大尺寸AMOLED显示的技术挑战被引量：3
《现代显示》2009年第5期20-25,共6页Hye Dong Kim Jae Kyeong Jeong Hyun-Joong Chung Yeon-Gon Mo 石琳 刘珊珊 
综述了目前大尺寸AMOLED显示的技术挑战,尤其是背板技术。然后论述了如何采用氧化物TFT新技术与LTPS和a-Si TFT的优势相结合制造大尺寸背板的最佳方案。通过对比传统准分子激光退火(ELA)LTPS和非晶铟-镓-氧化锌(a-IGZO)TFT的器件特性,...
关键词：结晶化技术 低温多晶硅 非晶铟-镓-氧化锌 
一种使用LTPS TFT的新型DC-DC转换器
《现代显示》2007年第5期16-19,共4页Shin-Hung Yeh Wein-Town Sun Chien-Chih Chen Chien-Sheng Yang 顾智企（译） 
一种新型DC-DC转换器可整合在使用多晶硅薄膜晶体管的2.2inQVGA级LCD显示板上。为了给显示板提供正负电源,采用了多相DC-DC转换器结构,同时减小了充电泵的工作频率。所以显示板工作信号频率低于20kHz,不需要外部时钟脉冲信号和电容。
关键词：DC-DC转换器 低温多晶硅 整合 显示板 
面临挑战的显示制造业
《现代显示》2006年第8期16-19,共4页Marcel Fuhren 李飞 
当前用于制作便携式显示器的STN-LCD和a-Si制造工艺,面对提高分辨率、增强色阶以及加快响应时间等方面的需求,将如何发展?
关键词：芯片做在玻璃基板上 芯片做在箔片上 非晶硅 低温多晶硅 
用大电流驱动采用SELAX技术的高分辨率显示系统的整体可靠性
《现代显示》2006年第8期20-23,共4页Y.Toyota M.Matsumura M.Hatano T.Shiba T.Itoga M.Ohkura 顾智企 
应用低压多晶硅TFT和高压多晶硅TFT组合开发成功高分辨率(>300ppi)LCD/OEL显示系统,也就是说,将受激准分子激光结晶化(ELC)TFT用于耐高压显示电路,而将选择扩大激光结晶化(SELAX)TFT用于低功耗高性能显示电路。在这两种混合型的TFT中,...
关键词：低温多晶硅 激光结晶化 扩大激光结晶化 耗尽雪崩热载流子 
一种基于低温多晶硅TFT技术的柔性8位异步微处理器
《现代显示》2006年第4期30-34,共5页Nobuo Karaki Takashi Nanmoto Hiroaki Ebihara Satoshi Inoue Tatsuya Shimoda 代永平 
介绍基于低温多晶硅TFT技术和采用激光退火表面刻蚀技术的柔性8位异步微处理器,并且给出了异步电路描述语言Verilog+。32,000个晶体管的微处理器在500kHz,5V的条件下消耗电流180mA,功耗是同步微处理器的30%。
关键词：低温多晶硅 激光退火表面刻蚀 异步微处理器 
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