射频溅射

作品数：205被引量：392H指数：8
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倒筒式射频溅射自偏压对Ba_(0.65)Sr_(0.35)TiO_3热释电薄膜结构及性能的影响被引量：1
《功能材料》2007年第3期348-350,353,共4页刘祚麟 吴传贵 张万里 李言荣 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(513102)
采用倒筒式射频溅射方法,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了Ba0.65Sr0.35TiO3(简称BST)薄膜。研究了自偏压对BST薄膜结构及电学性能的影响。在较高自偏压下制备的BST薄膜具有高度的(100)择优取向,且结晶性好,表面平整,耐压能力强。在25℃时...
关键词：BST 倒筒式 射频溅射 热释电系数 探测率 
射频溅射法在CeO_2/YSZ/Y_2O_3/NiW衬底上制备YBCO超导层被引量：4
《稀有金属》2007年第2期245-247,共3页张华 杨坚 刘慧舟 屈飞 
国家重点基础研究发展计划("973计划")(2006CB601005);北京有色金属研究总院青年基金资助项目
用射频溅射的方法在强立方织构的CeO2/YSZ/Y2O3/NiW衬底上制备了YBCO超导层. 温度、气压等因素对超导层的外延生长有重要影响. 在基片温度大于780 ℃, 气压在11～160 Pa之间, 都有NiWO4化合物生成;在退火吸氧过程中, 金属基底被氧化. ...
关键词：YBCO 溅射 衬底 织构 
射频溅射法镀LD腔面光学薄膜的工艺研究被引量：1
《半导体光电》2003年第6期451-453,共3页邹德恕 徐晨 鲁鹏程 杜金玉 崔碧峰 舒雄文 刘莹 沈光地 
国家"973"计划资助项目(G20000683-02);国家自然科学基金重点资助项目 (6988960 1 );北京市科委支持项目(992 70 60 1 )
　介绍了用普通多靶射频溅射台镀半导体激光器腔面光学膜的工艺方法,给出了实验的工艺条件、采用的光学膜的材料以及具体的工艺参数,讨论了此方法镀光学膜的结果以及优点。
关键词：射频溅射 增透膜 高反射膜 量子效率 
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