凸角补偿

作品数：18被引量：35H指数：3
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硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用被引量：1
《半导体光电》2004年第6期477-479,483,共4页孙洋 钱可元 韩彦军 蔡鹏飞 罗毅 雷建都 童爱军 
国家"973"计划项目 (G2 0 0 0 - 0 3 - 660 1 ) ;国家"863"计划项目 (2 0 0 1AA3 1 2 1 80 )
　基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻蚀,获得了表面平整和凸角完整的刻蚀结果,制作了用于微模塑工艺的硅基阳模,并成功地用于聚甲基乙烯基硅氧烷微分析芯片的制作上。
关键词：硅材料 湿法刻蚀 凸角补偿 微分析芯片 
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