中频磁控溅射

作品数:74被引量:187H指数:6
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相关作者:邓建新邢佑强吴泽王首军宋文龙更多>>
相关机构:中国科学院山东大学东南大学武汉大学更多>>
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离子源功率对a-C:H(Al)薄膜结构及性能的影响
《表面技术》2017年第6期143-150,共8页赵凤丽 代明江 林松盛 许伟 侯慧君 
广东省科技计划项目(2014B050503005;2014B050502008;2014B070706026);广东省科学院平台建设项目(2016GDASPT-0206;2016GDASPT-0317)~~
目的研究离子源功率对a-C:H(Al)薄膜结构及性能的影响。方法采用阳极离子源离化CH_4气体,中频磁控溅射Al靶,通过改变离子源功率,在n(100)型单晶硅及16Mn Cr5钢基体上沉积a-C:H(Al)薄膜。利用扫描电镜、维氏显微硬度计、摩擦磨损试验机...
关键词:类金刚石薄膜 a-C:H(Al)薄膜 中频磁控溅射 离子源功率 结合强度 摩擦学力学性能 
复合工艺制备TiAlN薄膜及其高温抗氧化性能研究被引量:5
《表面技术》2010年第6期22-25,共4页林小东 宋绪丁 傅高升 
福建省教育厅A类科技项目基金资助(JA07205)
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,通过调节Al靶电流,在不锈钢基体上制备了TiN薄膜和TiAlN薄膜样品,并在热处理炉内对薄膜进行高温抗氧化试验,分析了薄膜氧化前后的表面形貌、断口形貌及显微硬度。结果表明:TiAlN...
关键词:TIALN薄膜 TIN薄膜 抗高温氧化性能 中频磁控溅射 电弧离子镀 
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