纳米压印光刻

作品数：48被引量：105H指数：6
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纳米压印光刻中抗蚀剂膜厚控制研究被引量：2
《机械设计与制造》2010年第4期201-203,共3页严乐 李寒松 刘红忠 卢秉恒 
研究了纳米压印光刻匀胶工艺中抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速、匀胶时间和滴胶量之间的关系。实验研究表明,抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间均呈幂指数关系;当匀胶转速达到一定值,匀胶时间足够大时,膜厚不再随匀胶时间...
关键词：纳米压印光刻 抗蚀剂 匀胶 膜厚控制 
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