灰度掩模

作品数：20被引量：42H指数：4
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用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质被引量：2
《真空与低温》2009年第1期1-4,共4页马锋 王多书 罗崇泰 叶自煜 刘宏开 王济州 
表面工程技术国家级重点实验室基金项目(NO.51418060305HT6007)资助。
利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数。论述了其在激光直写灰度掩模中的应用。
关键词：二元金属薄膜 磁控溅射 激光直写 灰度掩模 
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