激光干涉光刻

作品数：18被引量：50H指数：5
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相关作者：王作斌翁占坤宋正勋冯伯儒张锦更多>>
相关机构：长春理工大学中国科学院四川大学苏州大学更多>>
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采用梯形棱镜波前分割的激光干涉光刻技术被引量：2
《应用激光》2005年第5期325-326,338,共3页冯伯儒 张锦 刘娟 
国家自然科学基金资助项目(60276043#)
光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术。随着IC集成度的提高,要求越来越高的光刻分辨力,但光学光刻的分辨极限受光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(λ)的限制。激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深...
关键词：激光干涉光刻 波前分割 光刻技术 微细加工 
用相干激光束曝光孔点阵列图形的几种方法
《应用激光》2005年第5期327-328,共2页张锦 冯伯儒 郭永康 刘娟 
国家自然科学基金(60276043#)资助项目
将涂有光致抗蚀剂的硅片或其它光敏材料置于由多束相干光以某种方式组合构成的干涉场中,可以在大视场和深曝光场内形成孔、点或锥阵周期图形,光学系统简单廉价,不需掩模和高精度大NA光刻物镜,采用现行抗蚀剂工艺。文中介绍的双光束双曝...
关键词：激光干涉光刻 无掩模 光刻技术 
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