兼容能力

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与金属兼容的离子注入光刻胶去除剂
《集成电路应用》2009年第11期I0001-I0004,29,共5页Glenn Westwood Ghi-Ming Jason Chang John B. Covington 
本文介绍了一种全湿法，高活性的光刻胶去除溶剂，可以去除注入硬化的光刻胶，并具备对金属的兼容能力。
关键词：兼容能力 光刻胶 离子注入 金属 去除剂 全湿法 高活性 
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