光学曝光

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光学微细加工技术现状及发展前景
《电子工业专用设备》1990年第3期2-12,27,共12页马云骧 
光学曝光技术在八十年代得到了飞速发展,它已成为半导体微细加工极为重要的手段。光学微细加工技术的大发展,促进了半导体集成电路制造技术的发展。 回顾半导体光学微细加工技术发展现状,探讨其发展前景,对进一步发展我国的半导体集成...
关键词：光学曝光 微细加工技术 半导体 
光学曝光与X射线曝光的竞赛前景
《电子工业专用设备》1990年第1期53-56,F004,共5页沃尔夫冈.阿登 卡尔-海因茨.缪勒 刘恩荣 
微光刻技术已进入亚微米尺寸加工时代,八十年代末即可使高密度集成电路—4兆位动态RAM和1兆位静态RAM存储器付诸生产。对集成密度的需要将要求曝光装置在九十年代就能大批量生产0.5μm及更小线宽的图形。光学曝光具有0.5μm尺寸的生产...
关键词：光学曝光 X射线曝光 集成电路 装置 
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