CMP工艺

作品数：32被引量：96H指数：6
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PG-510型单面抛光机的研制被引量：4
《电子工业专用设备》2010年第8期11-15,19,共6页刘涛 高慧莹 罗杨 费玖海 
国家863项目(200945KY02)
介绍了针对蓝宝石衬底表面纳米级抛光工艺而研制的PG-510单面抛光机的主要结构及其性能特点,简要论述了抛光过程中各工艺参数的控制方案,并通过实验验证了设备的主要性能指标,能够满足蓝宝石衬底表面纳米级抛光的工艺要求。
关键词：蓝宝石 纳米级抛光 CMP工艺 
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