等离子体蚀刻

作品数:49被引量:3H指数:1
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相关作者:李泽宇谢安彭平刘秀红朱兴华更多>>
相关机构:东京毅力科创株式会社朗姆研究公司SPTS科技有限公司兰姆研究有限公司更多>>
相关期刊:《集成电路应用》《等离子体应用技术快报》《化工新型材料》《电子科技文摘》更多>>
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李泽宇
南京信息工程大学
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