蔡道民

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供职机构:河北半导体研究所更多>>
发文主题:HIGH_ELECTRON_MOBILITY_TRANSISTORSHEMTALGAN/GANAIGAN/GANSAPPHIRE更多>>
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AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors on Sapphires with f_(max) of 100GHz
《Journal of Semiconductors》2005年第11期2049-2052,共4页李献杰 曾庆明 周州 刘玉贵 乔树允 蔡道民 赵永林 蔡树军 
国家重点基础研究发展规划(批准号:51327030201);国家自然科学基金(批准号:60136020)资助项目~~
AIGaN/GaN high electron mobility transistors grown on sapphire substrates with a 0.3μm gate length and 100μm gate width are fabricated. The device reveals a drain current saturation density of 0.85A/mm at a gate vol...
关键词:AIGAN/GAN HEMT SAPPHIRE 
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