高晓莹

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供职机构：浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所更多>>
发文主题：分辨率增强技术光学邻近校正集成电路版图可制造性设计更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《机电工程》更多>>
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集成电路版图中的多边形匹配比较研究
《机电工程》2007年第10期32-35,共4页史峥 高晓莹 任杰 施怡雯 
光学邻近校正是最重要的分辨率增强技术,而对光学邻近校正后的版图修正逐渐成为提高集成电路版图质量的必需步骤。提出了一种用于post-OPC版图(做过OPC的版图)修正的多边形匹配比较的线性算法。算法通过比较pre-OPC和post-OPC的版图,提...
关键词：可制造性设计 光学邻近校正 分辨率增强技术 多边形匹配比较 
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