彭文斌

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供职机构：四川联合大学更多>>
发文主题：微结构研究铁电薄膜PBTIO3半导体薄膜技术更多>>
发文领域：理学一般工业技术电子电信更多>>
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多离子束反应共溅射制备PbTiO_3铁电薄膜的微结构研究
《电子显微学报》1997年第4期449-450,共2页彭文斌 陈猛 朱建国 兰发华 肖定全 
本文利用多离子束反应共溅射装置，分别在Ｓｉ和ＭｇＯ衬底上原位制备了ＰｂＴｉ氧化物薄膜。研究表明，利用多离子束反应共溅射技术，可以显著降低薄膜后续热处理的温度；薄膜中焦绿石结构的消失温度与薄膜中Ｐｂ的含量有关；较之Ｓ...
关键词：多离子束 反应共溅射 铁电薄膜 半导体薄膜技术 
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