谭先华

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发文主题：子层超亲水光刻胶钙钛矿纳米线更多>>
发文领域：自动化与计算机技术电子电信电气工程一般工业技术更多>>
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衍射干涉光刻研究
《半导体技术》2012年第5期363-366,共4页高阳 廖广兰 谭先华 史铁林 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2009CB724204);国家自然科学基金资助项目(50805061;50975106)
光刻就是将掩模版上的图形转移到基底的过程,广泛应用于微电子、微机械领域。衍射现象是光刻工艺无法避免的问题,当掩模图形尺寸接近光源波长时,就会产生衍射干涉现象。利用这一现象,可以产生小于掩模图形尺寸的图形。采用严格耦合波分...
关键词：严格耦合波分析算法 光刻机 衍射干涉 干法刻蚀 亚微米 
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