邢明立

作品数：1被引量：1H指数：1
导出分析报告
供职机构：江苏大学材料科学与工程学院更多>>
发文主题：磁控溅射MO薄膜MO微观结构电学性能更多>>
发文领域：金属学及工艺更多>>
发文期刊：《金属热处理》更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-1
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
退火温度对磁控溅射Mo薄膜结构和性能的影响被引量：1
《金属热处理》2013年第7期78-80,共3页邢明立 花银群 陈瑞芳 胡光 孙伟 朱爱春 
江苏大学高级人才基金(10JDG061)
采用磁控溅射技术在石英基体上制备了厚度为600 nm的Mo薄膜,并在不同温度下(400～900℃)对其进行退火处理。通过XRD、SEM、四探针测试仪对Mo薄膜的结构和性能进行了分析。结果表明,随着退火温度的升高,(110)晶面择优取向特性增强。Mo薄...
关键词：MO薄膜 磁控溅射 退火温度 微观结构 电学性能 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部