戴传玮

作品数：1被引量：12H指数：1
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供职机构：复旦大学更多>>
发文主题：磁控溅射薄膜生长计算机模拟研究全过程磁场强度更多>>
发文领域：一般工业技术理学更多>>
发文期刊：《真空科学与技术学报》更多>>
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磁控溅射薄膜生长全过程的计算机模拟研究被引量：12
《真空科学与技术学报》2009年第6期586-592,共7页戴传玮 顾昌鑫 孙琦 单莉英 
本文通过建立多尺度模型,结合模拟了磁控溅射中溅射原子的产生、溅射原子的碰撞传输、以及最终成膜的全过程,研究了基板温度、溅射速率、磁场分布和靶材-基板间距对薄膜生长过程与薄膜性能的影响。模拟结果显示,提高基板温度或降低溅射...
关键词：磁控溅射 薄膜生长 多尺度模拟 
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