向伟伟

作品数：2被引量：1H指数：0
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供职机构：中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系更多>>
发文主题：放电器发生器溅射刻蚀图形化更多>>
发文领域：理学一般工业技术电气工程更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《中国科学技术大学学报》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
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利用溅射反转剥离工艺实现微放电器Ni电极图形化
《中国科学技术大学学报》2010年第4期400-405,共6页张秋萍 文莉 向伟伟 王海 褚家如 
国家自然科学基金(50605061)资助
研究了实现微放电器Ni电极图形化的溅射反转剥离工艺,即采用磁控溅射沉积Ni薄膜,利用图像反转法实现金属剥离.以硅为基底分析了转型烘烤和显影等因素对AR-U4030光刻胶反转的作用,研究了Ni膜溅射功率、时间以及超声振洗等条件对剥离的影...
关键词：溅射 图像反转 剥离 微小等离子体反应器 
微小等离子体发生器刻蚀机理的研究被引量：1
《微细加工技术》2008年第5期50-52,55,共4页王海 文莉 向伟伟 张秋萍 褚家如 
国家自然科学基金资助项目(50605061);安徽工程科技学院青年基金资助项目(m01009);安徽工程科技学院科研启动基金资助项目(S01003)
采用二维流体模型对扫描刻蚀加工中的微小等离子体发生器的刻蚀机理进行了数值仿真研究。该微小等离子体发生器为微空心阴极放电器件,当工作气体为SF6,工作气压在5 kPa^9 kPa时,空心阴极处微孔半径为0.25μm时,空心阴极外部区域的F原子...
关键词：扫描等离子体刻蚀 等离子体模拟 微小等离子体 
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