李晶

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超深亚微米PMOSFET的自愈合效应
《物理学报》2006年第5期2508-2512,共5页李晶 刘红侠 郝跃 
国家自然科学基金(批准号:60206006);国家高技术研究发展计划(批准号:2004AA1Z1070);教育部重点科技研究项目(批准号:104172)资助的课题~~
主要研究负栅压偏置不稳定性(negative bias temperature instability,NBTI)效应中的自愈合效应,研究了器件阈值电压随着恢复时间和应力时间的恢复规律.研究表明器件的退化可以恢复是由于NBTI应力后界面态被氢钝化.
关键词:负偏置温度不稳定性效应 自愈合效应 应力时间 PMOSFET 
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