李涛

作品数：6被引量：26H指数：3
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供职机构：中国科学技术大学更多>>
发文主题：ICF衍射光学元件均匀照明大尺寸PPE更多>>
发文领域：核科学技术电子电信理学机械工程更多>>
发文期刊：《中国激光》《物理学报》《光电工程》《计算物理》更多>>
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一种用于均匀照明的衍射光学元件设计的混合算法被引量：9
《计算物理》2002年第1期77-80,共4页李涛 付绍军 王炜 徐俊中 李永平 
86 3 416计划资助项目
介绍一种综合迭代法和优化算法两者优势的混合算法 ,并用于设计ICF靶场照明衍射光学元件 ,得出比先前方法更加理想的模拟结果 .其衍射效率达到 97 5 % ,均方误差为 0 0 2 6 。
关键词：位相混合法 模拟退火法 迭代法 优化算法 ICF 靶场 衍射光学元件 设计 均匀照明 
离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响被引量：3
《光电工程》2001年第6期24-28,共5页徐俊中 赵逸琼 王炜 李永平 徐向东 周洪军 洪义麟 李涛 傅绍军 
国家863-416课题资助项目
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。
关键词：旋转刻蚀 误差分析 离子束刻蚀 衍射光学元件 均匀照明 
连续工艺衍射光学元件的应用特性分析被引量：7
《中国激光》2001年第1期41-46,共6页王炜 裴珉 李永平 李涛 洪义麟 傅绍军 
86 3 416课题资助项目
研究了连续工艺衍射光学元件在实际系统中的宽容度问题 ,模拟了非理想入射波、系统非共轴以及焦面定位对均匀照明的影响 ,提出了系统定位精度的重要性 ,并为实际工程检测提供了有意义的参数。
关键词：光场均匀化 衍射 连续工艺 光学元件 
用于ICF的大尺寸位相元件的设计被引量：11
《中国激光》1999年第5期395-399,共5页王炜 李涛 刘力 李永平 洪义麟 徐向东 霍同林 傅绍军 
863-416课题资助项目
发展了用于实现ＩＣＦ靶面均匀照明的大口径连续型位相元件设计的新方法，并且在工艺上进行了初步试制。等厚干涉图显示达到了预期的大口径。
关键词：PPE 设计 ICF 惯性约束核聚变 激光技术 
用于ICF的位相元件宽容度分析被引量：3
《光电工程》1999年第5期63-68,共6页王炜 裴珉 李永平 李涛 傅绍军 
863- 416 高技术资助研究项目
分析了用于惯性约束核聚变驱动器的大口径连续型位相元件的宽容度问题，并用计算机模拟了具有一定的频带宽度及随机的位相光强畸变的入射光波对靶场均匀照明的影响。结果显示，所设计的位相元件具有较大的适应性。
关键词：位相元件 宽容度分析 惯性约束 核聚变 
Gd_2CuO_4的远红外反铁磁共振理论
《物理学报》1996年第4期675-680,共6页李涛 吴杭生 
提出一个适用于奈耳温度6.4K以下,Gd_2CuO_4的远红外反铁磁共振理论.理论预言的结果与Kaplan等的实验符合.
关键词：远红外 反铁磁共振 Gd2CuO4 
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