岳宏达

作品数:11被引量:7H指数:1
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供职机构:清华大学机械工程学院精密仪器与机械学系更多>>
发文主题:光密度染料盘片工艺参数CD更多>>
发文领域:化学工程自动化与计算机技术理学更多>>
发文期刊:《记录媒体技术》《清华大学学报(自然科学版)》《力学与实践》《信息记录材料》更多>>
所获基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
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染料旋涂工艺中的挥发和流动被引量:5
《清华大学学报(自然科学版)》2004年第2期174-177,共4页岳宏达 潘龙法 徐端颐 
国家"九七三"重点基础研究项目(G19990330)
染料旋涂是高密度可录光盘复制工艺中的核心部分,其流体流动的力学机制分析属于旋转圆盘系统理论的最新进展,文中分析了染料旋涂中复合溶剂的挥发对流体流动的影响。利用牛顿流体旋涂模型和旋涂溶剂挥发模型进行仿真实验,并对过渡点位...
关键词:染料 旋涂工艺 旋转圆盘 流动机制 溶剂挥发 用工艺模型 
可记录光盘染料旋涂工艺的流动机制研究被引量:1
《力学与实践》2003年第6期25-26,共2页岳宏达 潘龙法 王文中 
973国家重点基础研究发展规划项目(G1999033003)资助
染料旋涂是可记录光盘复制中的核心工艺。依据实验给出旋涂工艺的简化模型,并运用旋转圆盘理论分析流体流动。考虑基片上的预刻槽对流动的影响,考虑基片表面和流体间的滑移效应,导出运动方程、边界方程和连续方程,最终导出染料旋涂的控...
关键词:可记录光盘 染料旋涂 旋转圆盘 流动机制 控制方程 滑移效应 运动方程 边界方程 连续方程 
光盘生产中的常用检测仪——电信号检测仪
《记录媒体技术》2003年第5期46-51,共6页岳宏达 
1 引言光盘检测是光盘质量控制中的重要环节,是产品分级,市场准入的重要判别手段。光盘检测包括在线检测和离线检测,在线检测是光盘生产过程中不可或缺的重要环节,伴随着光盘生产的每个工艺步骤;离线检测是光盘工艺调整、光盘质量评判...
关键词:检测仪器 离线检测 在线检测 工艺步骤 信号检测 信号参数 工业标准 盘片 信息符 检测软件 
可写光盘光密度曲线模型的研究及应用
《光学技术》2003年第5期549-551,554,共4页岳宏达 潘龙法 
国家"九七三"重点基础研究项目(G19990330)
利用光密度曲线模型优化可写光盘的染料旋涂工艺。模型具有4个特征点和3个特征线段。特征点的位置反映了平移效应和填充效应的综合效果。特征线段的斜率反映了薄膜表面的平面度。借助模型分析旋涂工艺中的许多重要参数,从而控制盘片质量...
关键词:可写光盘 染料旋涂 光密度 曲线模型 工艺参数 闭环控制 
可记录光盘CD-R染料旋涂工艺实验与分析
《记录媒体技术》2003年第4期43-48,共6页岳宏达 
1、引言近年来,光盘存储技术飞速发展,可写光盘(仅指一次可写光盘,包括CD-R及DVD-R)作为可记录信息载体得到广泛应用。可写光盘信息层由有机染料通过旋涂法制备。可写光盘复制工艺包括模压、旋涂、溅镀、粘接(仅对DVD-R)、涂保护胶等几...
关键词:旋涂法 CD-R 工艺参数 填充效应 光密度 粘性力 曲线模型 粘性流体 工艺实验 特征点 
染料薄膜光学特性的仿真与研究
《记录媒体技术》2003年第3期54-57,共4页岳宏达 
1 前言近年来,光存储技术飞速发展,可写光盘(CD-R/DVD-R)作为可记录信息载体得到广泛的应用。可写光盘的复制工艺包括模压(基片)、旋涂(染料层)、溅镀(反射层)、涂保护胶(保护层)几个部分,图1显示了CD-R的多层膜结构。可写光盘的基片材...
关键词:基片材料 旋涂法 光存储技术 薄膜光学 多层膜结构 盘片 消光系数 透射率 料层 吸收峰 
CD-R生产中的染料光密度闭环控制
《记录媒体技术》2003年第2期38-40,共3页岳宏达 MarkusPohlen ThomasLange 
1.前言高产出,高成品率,低原材料消耗,低能耗,低人力消耗——这是每个光盘复制者追求的目标。今天,先进的闭环控制系统可以实现这一目标。对于不同格式的盘片,对于不同的工艺过程,需要不同的控制系统。我们将依次介绍这些系统。本文首...
关键词:光密度 CD-R 闭环控制 旋涂 自动控制系统 光学参量 工艺条件 盘片 低能耗 吸收峰 
可录光盘槽内和岸上的染料层厚度分布研究
《记录媒体技术》2003年第2期49-50,共2页岳宏达 Rolf Hertling 
1 前言在“CD-R生产中的染料光密度闭环控制”中,介绍了CD-R旋涂工艺过程中,利用ETA-DYE-ODPROCON系统保持光密度稳定性。随着可录光盘从CD-R到DVD-R的发展和读写速度的升高,染料层在槽内和岸上的微观分布的研究将越来越重要。生产者需...
关键词:料层厚度 光密度 读写速度 旋涂 闭环控制 工艺过程 盘片 参数记录 激光聚焦 言在 
利用光密度曲线模型研究CD—R染料旋涂工艺
《信息记录材料》2003年第1期3-6,28,共5页岳宏达 宾月景 潘龙法 陈垦 
染料旋涂是CD—R复制中的核心工艺 ,旋涂的结果影响最终的盘片质量。光密度曲线代表了旋涂结果。利用光密度曲线模型分析旋涂工艺中的许多重要参数 ,从而控制盘片质量。利用专用仪器测试出旋涂后盘片的光密度曲线 ,并对曲线进行分段性...
关键词:染料旋涂 光密度 曲经模型 工艺参数 
多层光盘调制码的优化
《清华大学学报(自然科学版)》2002年第11期1455-1458,共4页赵辉 徐端颐 岳宏达 
国家"九七三"重点基础研究项目(G19990330)
为达到光盘容量的最大化,基于多层光盘,对现有的调制码进行了优化,并对优化后可能出现的超出jitter允差问题和锁相环(PLL)时钟同步问题进行了分析并给予解决。提出了一种有别于传统的多层混合时钟同步信号获取方法,用以满足PLL稳定工作...
关键词:多层光盘 调制码 游程长度受限码 锁相环 jitter允差 光盘容量 存储密度 
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