高博

作品数：3被引量：6H指数：2
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供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文主题：CAT-CVD多晶硅薄膜催化化学气相沉积氢原子成核更多>>
发文领域：理学电子电信更多>>
发文期刊：《液晶与显示》更多>>
所获基金：国家自然科学基金吉林省科技发展计划基金国家高技术研究发展计划更多>>
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Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜的孕育层控制
《液晶与显示》2007年第1期37-41,共5页张玉 荆海 付国柱 高博 廖燕平 李世伟 黄金英 
国家自然科学基金资助项目(No.60576056)
采用催化化学气相沉积法(Cat-CVD)制备多晶硅(p-Si)薄膜的初期会形成一层比较厚的非晶硅(a-Si)孕育层。这层孕育层作为p-Si的前驱生长物,给p-Si的晶化提供晶核,同时这层薄膜又存在较多的缺陷,严重影响了p-Si器件的性能。文章采用p-Si的...
关键词：催化化学气相沉积法 多晶硅薄膜 非晶硅孕育层 氢原子刻蚀 晶核 晶化速率 
用Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜及结构分析被引量：3
《液晶与显示》2006年第6期668-673,共6页张玉 高博 李世伟 付国柱 高文涛 荆海 
国家自然科学基金资助项目(No.60576056)
以金属钨为催化热丝,采用热丝催化化学气相沉积,在300℃的玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。研究了H2稀释率、钨丝与衬底间的距离和反应室气体压力等沉积参数对制备多晶硅薄膜的影响,并通过XRD谱分析,确定了本实验系统的最佳多晶硅成膜条件:FR...
关键词：多晶硅薄膜 催化化学气相沉积 沉积参数 逐层分析 分步成核 
氢原子在Cat-CVD法制备多晶硅薄膜中的作用被引量：4
《液晶与显示》2004年第6期450-454,共5页邝俊峰 付国柱 高博 高文涛 黄金英 廖燕平 荆海 
国家"863"计划资助项目(No.2002AA303250);吉林省科技发展计划项目(No.20010305)
采用钨丝催化化学气相沉积(Cat CVD)方法制备多晶硅(p Si)薄膜,研究氢气稀释率(FR(H2)/(FR(H2)+FR(SiH4))对制备多晶硅薄膜的影响。XRD和喇曼光谱分析分别显示(111)面取向的多晶硅峰及喇曼频移为520cm-1多晶硅峰的强度随氢气稀释率的增...
关键词：多晶硅薄膜 氢原子 催化化学气相沉积 
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