张庆坤

作品数：1被引量：5H指数：1
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供职机构：山东大学物理学院更多>>
发文主题：硅片清洗清洗工艺氢氟酸润湿性更多>>
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氢氟酸在新型清洗工艺中的作用被引量：5
《半导体技术》2002年第7期23-25,共3页曹宝成 于新好 马洪磊 张庆坤 
山东省自然科学基金资助项目
介绍了HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中对硅片表面的作用,无论是常规的酸碱清洗还是DGQ系列清洗剂的清洗,在没有HF稀溶液浸泡的情况下,1108波数处的吸收都是不同价态硅氧化物的复合吸收,用HF稀溶液浸泡后清洗的硅片,复合吸收变成仅有二氧...
关键词：硅片清洗 氢氟酸 润湿性 二氧化硅吸收 
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