于新好

作品数：5被引量：29H指数：4
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供职机构：山东大学更多>>
发文主题：清洗剂清洗工艺壬基酚硅片清洗集成电路更多>>
发文领域：电子电信化学工程更多>>
发文期刊：《化学进展》《半导体技术》《固体电子学研究与进展》《Journal of Semiconductors》更多>>
所获基金：国家自然科学基金山东省自然科学基金更多>>
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清洗后硅片表面的电子结构被引量：4
《固体电子学研究与进展》2002年第4期496-499,共4页曹宝成 于新好 马谨 马洪磊 刘忠立 
国家自然科学基金资助项目 (批准号 60 1760 3 2 )
介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗工艺。利用红外吸收谱、X射线光电子谱和原子力显微镜等 ,把它和标准 RCA清洗工艺的清洗效果做了比较。测试结果表明 ,经清洗过的硅片表面主要是由硅、氧和碳三种元素组成 ,它...
关键词：表面清洗 红外吸收谱 X射线光电子谱 原子力显微镜 
新型半导体清洗剂的清洗工艺被引量：6
《Journal of Semiconductors》2002年第7期777-781,共5页曹宝成 于新好 马洪磊 
国家自然科学基金资助项目 (批准号 :6 0 176 0 32 )~~
报道了利用红外吸收谱、X射线光电子谱和表面张力测试仪对新型半导体清洗工艺进行研究的结果 .采用DGQ系列清洗剂清洗硅片时 ,首先需用HF稀溶液浸泡硅片 ,以利于将包埋于氧化层内的金属和有机污染物去除 ;溶液的配比浓度由临界胶束浓度...
关键词：半导体 清洗剂 清洗工艺 红外吸收谱 X射线光电子谱 
氢氟酸在新型清洗工艺中的作用被引量：5
《半导体技术》2002年第7期23-25,共3页曹宝成 于新好 马洪磊 张庆坤 
山东省自然科学基金资助项目
介绍了HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中对硅片表面的作用,无论是常规的酸碱清洗还是DGQ系列清洗剂的清洗,在没有HF稀溶液浸泡的情况下,1108波数处的吸收都是不同价态硅氧化物的复合吸收,用HF稀溶液浸泡后清洗的硅片,复合吸收变成仅有二氧...
关键词：硅片清洗 氢氟酸 润湿性 二氧化硅吸收 
用含表面活性剂和螯合剂的清洗液清洗硅片的研究被引量：16
《Journal of Semiconductors》2001年第9期1226-1229,共4页曹宝成 于新好 马瑾 马洪磊 刘忠立 
目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是 RCA清洗技术 .文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术 .并利用 X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法 ,分别比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面 .测试结果表...
关键词：表面清洗 表面活性剂 螯合剂 清洗液 硅片 
超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展被引量：3
《化学进展》2000年第1期103-107,共5页张树永 郭永榔 曹宝成 于新好 
本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现状，并对技术的未来发展进行了展望。
关键词：VLSI 集成电路 硅片 溶液清洗技术 清洁度 
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