陈思乡

作品数：4被引量：4H指数：2
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供职机构：武汉理工大学机电工程学院更多>>
发文主题：平面光波导SIOPECVD溅射沉积可变光衰减器更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《光通信技术》《红外与毫米波学报》《光通信研究》更多>>
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单纤三向器件平面光波导芯片结构优化设计
《光通信研究》2007年第4期65-67,共3页陈霞 陈思乡 
文章对采用平面光波导技术的单纤三向器件(Triplexer)芯片结构的参数进行了优化设计,对单元结构的光谱响应进行了模拟计算,通过数值模拟分析了结构的工艺容差性。结果表明,采用双模耦合器和M-Z干涉仪结构可以得到工艺容差性高、光谱响...
关键词：单纤三向器件 平面光波导 双模耦合器 M—Z干涉仪 
硅基SiO_2平面光波导中硼磷硅玻璃覆盖层的制备和研究被引量：2
《红外与毫米波学报》2005年第5期390-393,共4页陈思乡 江征风 胡业发 刘文 
国家863计划光电子材料与器件主题项目(2001AA312020)
利用等离子体增强化学气相沉积方法,在S iH4/N2O反应气体中掺入PH3和B2H6制备了用于硅基S iO2平面光波导的硼磷硅玻璃覆盖层.分析了磷掺杂和硼掺杂对折射率的影响,提出了选择掺杂气体流量匹配折射率的方法.研究了退火温度和气氛对膜层...
关键词：平面光波导 硼磷硅玻璃 等离子钵增强化学气相沉积 台阶覆盖 
SiO_2平面光波导的PECVD制备和膜层特性研究
《光通信研究》2005年第5期68-70,共3页陈思乡 江征风 胡业发 刘文 
研究了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)的光波导膜层的光学特性,论述了沉积工艺参量和退火处理对膜层性能的影响,优化工艺获得了高质量的波导膜层,成功设计制作了在1 550 nm中心波长损耗低于0.1 dB/cm的平面光波导和阵列波导光栅(AWG)...
关键词：平面光波导 SiO2波导 等离子体增强化学汽相沉积 
一种制作可变光衰减片的新方法被引量：2
《光通信技术》2005年第4期13-14,共2页陈思乡 江征风 胡业发 许远忠 
介绍了一种制作可变光衰减器用衰减片的新方法,即采用曲线型沉积孔挡板,结合基片旋转,在玻璃基底上获得厚度线性变化的溅射金属膜层,形成可变光衰减器。
关键词：可变光衰减器 金属膜 溅射沉积 
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