溅射沉积

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基于磁控溅射沉积BZO/Ag/BZO透明电极的性能优化研究
《功能材料》2025年第1期1120-1125,1138,共7页王露 高春联 李月婵 李秀秀 谢安 
福建省自然科学基金(2022J011266);厦门市重大科技项目(3502Z20231017);大学生创新创业训练计划项目(S202311062023)。
采用多步磁控溅射的方法在钠钙玻璃衬底上制备了BZO/Ag/BZO电极,分别研究金属层Ag和顶层BZO厚度对电极形貌和光电性能影响。通过优化Ag层厚度,当Ag层达到19 nm的厚度阈值时,Ag由“孤岛结构”转变为“连续结构”,为自由电子的传输提供完...
关键词：BZO/Ag/BZO电极 金属Ag层 厚度 导电性能 高透射率 
Ta/Cr复合涂层的磁控溅射沉积与性能优化
《装备环境工程》2025年第1期50-60,共11页许瑞 刘龙 刘翠翠 徐志刚 彭健 王传彬 
广东省基础与应用基础研究重大项目(2021B0301030001)。
目的在Ta涂层与基体之间引入Cr缓冲层,研究不同Cr缓冲层厚度(447~1503 nm)对涂层物相结构、微观形貌、力学性能、结合性能及摩擦磨损性能的影响,以提高Ta涂层与不锈钢基体间结合力,提升Ta/Cr复合涂层的性能。方法采用磁控溅射技术,在PCr...
关键词：α-Ta涂层 Cr缓冲层 磁控溅射 力学性能 界面结合 摩擦磨损 
保温时间对Ni-W合金靶材组织性能及其溅射薄膜性能的影响
《材料热处理学报》2025年第1期180-189,共10页高铭 王文焱 岳慎伟 谢敬佩 崔云峰 刁晓刚 
洛阳市重大科技创新专项(2201018A);郑洛新国家自主创新示范区创新引领型产业集群专项(201200211000)。
首先采用烧结工艺制备了不同保温时间的Ni-W合金靶材,并以氧化铟锡(ITO)为基体,通过磁控溅射法制备了Ni-W合金薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、电子背散射衍射(EBSD)、透射电镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)等对靶材及其溅射薄膜...
关键词：Ni-W合金靶材 磁控溅射沉积 显微组织 
磁控溅射沉积ZnS薄膜及其性能研究
《红外》2024年第12期40-44,共5页戴永喜 郑天亮 王娇 赵凯 李乾 
采用磁控溅射技术在硅衬底上制备ZnS薄膜,探究了溅射功率对ZnS薄膜沉积速率、表面粗糙度和表面形貌的影响。采用台阶仪、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)、椭偏仪等表征...
关键词：磁控溅射 ZNS薄膜 沉积速率 溅射功率 微观结构 
离子束表面加工设备控制系统研究与设计
《电子工业专用设备》2024年第6期16-19,53,共5页范江华 黄一峻 周立平 周波 刘庆浩 胡坤 
通过研究离子束表面加工设备的功能要求和工艺流程,设计了一套具备全自动真空、控温、传片、镀膜、刻蚀等功能的控制系统,并详细阐述控制系统各模块的功能及设计实现。经过产线流片验证,该控制系统运行稳定,满足离子束加工设备镀膜与刻...
关键词：离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 控制系统 
靶材对溅射沉积TiO_(2)涂层微观结构与性能的影响
《包装学报》2024年第6期33-40,共8页罗侃 李文元 姚泉 李健智 丁泽良 
湖南省自然科学基金资助项目(2023JJ50163)。
分别采用TiO_(2)陶瓷靶和Ti金属靶,通过磁控溅射技术在TC4钛合金表面制备TiO_(2)涂层,并利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、划痕仪和电化学工作站对试样进行测试,研究其微观结构、结合强度、亲水性和耐蚀性。研究结...
关键词：钛合金 靶材 磁控溅射 氧化钛 涂层 
基于WTe_(2)可饱和吸收体的超快掺铒光纤激光器
《光学学报》2024年第20期166-172,共7页叶传香 李珺子 王金涛 
国家自然科学基金(12074264,11904240);广东省自然科学基金(2022A1515010759,2024A1515012330);广东省教育厅特色创新项目(2022KTSCX310);深圳市科创委稳定支持项目(20231128090750001);深圳职业技术大学项目(6022310027K,6022312060K,6023310035K)。
采用磁控溅射沉积的WTe_(2)作为可饱和吸收体,在掺铒光纤激光器中实现了超快脉冲的产生。在1559.31 nm波长处,实验测得的3 d B光谱带宽为11.54 nm,脉冲宽度为231 fs。在26.6 MHz基频处获得了最大平均输出功率为58 m W、脉冲能量为2.18 ...
关键词：激光器 磁控溅射沉积 WTe2 掺铒光纤 锁模 微纳光纤 
离子束表面加工设备及工艺研究
《中国集成电路》2024年第9期87-91,共5页范江华 李勇 袁祖浩 龚俊 胡凡 黄也 
本文介绍了一种用于红外芯片金属化与刻蚀工艺的离子束表面加工设备。通过实验探索不同工艺角度下薄膜沉积速率与均匀性及刻蚀速率与均匀性的影响,结果表明薄膜沉积均匀性与刻蚀均匀性均优于3%。同时经过产线流片,红外芯片表面薄膜均匀...
关键词：离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 射频离子源 
使用电子回旋波共振等离子体源辅助中频磁控溅射沉积氧化铌薄膜
《中国表面工程》2024年第4期273-279,共7页殷冀平 吕少波 蔺增 巴德纯 
国家自然科学基金(51775096);中国科学院-威高研究发展计划攻关项目([2007]006);中央高校基本科研业务费项目(N2003009)。
中频磁控溅射虽相较于电子束蒸发成膜质量更好,但不可避免仍然存在一部分颗粒物,将严重影响光学薄膜的质量和光学特性。研究了使用电子回旋波共振(ECWR)等离子体源作为辅助设备与中频磁控溅射相配合沉积的氧化铌薄膜,进行了等离子体诊...
关键词：电子回旋波共振等离子体 中频磁控溅射 等离子体诊断 感应耦合等离子体 氧化铌薄膜 
磁控溅射沉积Ni-DLC涂层摩擦磨损性能研究及预测
《建模与仿真》2024年第4期4381-4394,共14页石青松 徐红玉 王晓强 
国家自然科学基金项目[U1804145];国家重点研发计划[2018YFB2000405];国家重点研发计划[2022YFC2805702]。
为提高风电轴承的摩擦磨损性能、延长使用寿命,从而降低运维成本,以硬度、摩擦系数和磨损率为摩擦磨损性能的评价指标。在42GrMo钢基体使用非平衡磁控溅射沉积技术沉积Ni-DLC复合涂层,对复合涂层进行摩擦磨损实验和划痕实验,测试涂层的...
关键词：磁控溅射 指数回归 摩擦磨损性能 Ni-DLC涂层 风电轴承 
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