曾洪江

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供职机构：中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系更多>>
发文主题：亚胺化放电器刻蚀速率聚酰亚胺介电性能更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《真空科学与技术学报》更多>>
所获基金：中央高校基本科研业务费专项资金国家自然科学基金更多>>
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用于微放电器的聚酰亚胺绝缘层的工艺和性能研究
《真空科学与技术学报》2011年第1期114-118,共5页张秋萍 文莉 向伟玮 曾洪江 何利文 褚家如 
国家自然科学基金资助项目(50605061);中央高校基本科研业务费专项资金资助
研究了一种应用于微放电器的聚酰亚胺绝缘材料的工艺及性能。分析了聚酰亚胺制备过程中亚胺化程度以及图形化过程中反应离子刻蚀功率、气体流量、气体成分、清洗等因素对于薄膜质量、刻蚀速率和残留物的影响,设计了用于测定聚酰亚胺介...
关键词：聚酰亚胺 微放电 亚胺化 刻蚀速率 介电性能 
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