陈光焱

作品数：1被引量：1H指数：1
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供职机构：中国工程物理研究院电子工程研究所更多>>
发文主题：ZNU薄膜压电特性结构特性退火更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《强激光与粒子束》更多>>
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热处理对ZnO/Au薄膜结构和压电特性的影响(英文)被引量：1
《强激光与粒子束》2015年第2期176-180,共5页杨杰 陈光焱 王旭光 沈朝阳 姚明秋 
supported by National Natural Science Foundation of China(61101038)
通过射频磁控溅射在氧化硅片表面沉积ZnO/Au薄膜,并通过不同的热处理方式对薄膜进行退火。为了研究退火对ZnO/Au薄膜结构和压电特性的影响,采用X射线衍射分析(XRD)、光学显微镜、场发射扫面电镜(FESEM)和压电力分析仪对薄膜退火前后的...
关键词：ZnO/Au 薄膜 压电特性 结构特性 退火 
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