李笑

作品数：4被引量：27H指数：4
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供职机构：中国科学院研究生院更多>>
发文主题：激光预处理高反膜蒸发制备SIOHFO2/SIO2更多>>
发文领域：理学电子电信更多>>
发文期刊：《中国激光》《强激光与粒子束》《光学学报》更多>>
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激光预处理对SiO_2单层膜中缺陷的影响被引量：7
《中国激光》2010年第6期1626-1630,共5页李笑 刘晓凤 赵元安 邵建达 
国家863计划(2006AA804908)资助课题
采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜,利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析,并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明,激光预处理可以使SiO2单层膜在采用最大光斑条件下的损...
关键词：薄膜 激光预处理 SiO2单层膜 光斑效应 缺陷 
激光预处理ZrO_2-SiO_2 1064nm高反射膜的机理被引量：4
《光学学报》2010年第8期2284-2289,共6页李笑 刘晓凤 单永光 赵元安 邵建达 范正修 
国家863计划(2006AA804908)资助课题
分析了激光预处理对ZrO2-SiO21064nm高反射膜激光损伤阈值以及引起损伤缺陷的影响。在以缺陷损伤阈值和缺陷密度表征缺陷的基础上,研究了预处理前后薄膜中引起损伤缺陷的变化情况。研究了激光预处理能量和预处理效果的关系。结果表明,...
关键词：激光技术 激光预处理 缺陷阈值 缺陷密度 ZRO2-SIO2 预处理效果 
电子束蒸发制备HfO_2/SiO_2高反膜的1064 nm激光预处理效应被引量：10
《中国激光》2009年第6期1545-1549,共5页刘晓凤 李大伟 李笑 赵元安 邵建达 
国家863 计划(2006AA804908)资助项目
激光预处理是提高薄膜元件抗激光损伤阈值的重要手段。对电子束蒸发HfO_2,SiO_2块状材料镀制的基频高反膜进行了1-on-1和R on-1阈值测试,比较分析了两种测试情况下出现的典型损伤形貌。实验发现,R-on-1测试表现出明显的预处理效应,其所...
关键词：薄膜 吸收性缺陷 力学稳定 损伤阈值测试 激光预处理 多层高反膜 
1064nm与532nm激光对电子束蒸发制备的HfO2／SiO2高反膜损伤比较被引量：10
《强激光与粒子束》2008年第9期1457-1460,共4页李大伟 陶春先 李笑 赵元安 邵建达 
研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2高反膜在1 064 nm与532 nm激光辐照下的损伤行为。基频激光辐照时损伤形貌主要为节瘤缺陷喷溅留下的锥形坑,当能量密度较大时出现分层剥落;二倍频激光损伤主要是由电子缺陷引起的平底坑,辐照脉冲能量密...
关键词：光学薄膜 激光损伤 电子束蒸发 电子缺陷 
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