董亚斌

作品数：3被引量：8H指数：2
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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：氧化锌薄膜共掺受主原子层沉积锌源更多>>
发文领域：化学工程电子电信电气工程金属学及工艺更多>>
发文期刊：《物理学报》《无机材料学报》《稀有金属》更多>>
所获基金：中国科学院科研装备研制项目国家科技重大专项更多>>
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AlON/TiAlON_D/TiAlON_M/Cu光谱选择性吸收涂层高温真空稳定性研究
《稀有金属》2016年第9期896-901,共6页董亚斌 杜淼 刘晓鹏 郝雷 
国家科技部高技术研究发展(863)计划项目(2012AA050601)资助
利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)和俄歇电子能谱仪(AES)研究了AlON/TiAlON_D/TiAlON_M/Cu选择性吸收涂层高温真空条件下显微形貌、结构与化学成分的变化。结果表明,退火前后选择性吸收涂层的多层膜结构和微...
关键词：选择性吸收涂层 热稳定性 晶化 元素扩散 激活能 
原子层沉积生长速率的控制研究进展被引量：6
《无机材料学报》2014年第4期345-351,共7页卢维尔 董亚斌 李超波 夏洋 李楠 
中国科学院科研装备研制项目(Y3YZ028001)~~
原子层沉积生长技术(ALD)是以表面自限制化学反应为机制的薄膜沉积技术,可以一层一层地生长薄膜。该技术具有生长温度低、沉积厚度精确可控、保形性好和均匀性高等优点,逐渐成为制备薄膜材料最具发展潜力的薄膜生长技术。作为ALD技术中...
关键词：原子层沉积 生长速率 生长机制 位阻效应 
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