王颖蕾

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供职机构：天津理工大学电子信息工程学院更多>>
发文主题：磁性研究磁控溅射法磁控溅射磁控磁材料更多>>
发文领域：电子电信理学一般工业技术金属学及工艺更多>>
发文期刊：《天津理工大学学报》更多>>
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磁控溅射法制备的不同浓度Cr掺杂ZnO薄膜磁性研究
《天津理工大学学报》2010年第3期11-12,共2页王颖蕾 陈希明 李伟 吴晓国 
天津市自然科学基金重点项目(06YFJZJC00100);天津市教委科技发展重点基金(2004ZD01);天津市薄膜电子与通信器件重点实验室
采用磁控溅射法在硅片上制备Cr掺杂ZnO薄膜材料,通过控制共溅时间来控制掺杂浓度.晶体结构分析表明所有样品均为ZnO纤锌矿结构,没有观测到其他杂相峰.Cr掺杂ZnO薄膜具有c轴择优取向.磁性测试结果表明,不同浓度Cr掺杂ZnO薄膜具有室温铁磁...
关键词：磁控溅射法 ZNO薄膜 室温铁磁性 
硼掺杂对金刚石薄膜载流子浓度的影响
《天津理工大学学报》2009年第6期65-67,共3页程强 王颖蕾 陈希明 付长风 李杰 
采用固体三氧化二硼,在硅衬底上用HFCVD法生长金刚石薄膜.对CVD金刚石薄膜的进行了表面形貌和结构进行了研究,并测试了不同硼掺杂浓度的金刚石膜载流子浓度及其电阻率.结果表明:金刚石膜结构致密,硼掺杂有利于改善膜质量,膜中载流子浓...
关键词：CVD金刚石薄膜 硼掺杂 电学性能 
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