俞坚钢

作品数：1被引量：0H指数：0
导出分析报告
供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
发文主题：界面粗糙度直流磁控溅射多层膜中子更多>>
发文领域：理学一般工业技术更多>>
发文期刊：《中国材料科技与设备》更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-1
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
不同工艺条件下Ni／Ti周期性多层膜界面粗糙度的研究
《中国材料科技与设备》2009年第3期54-56,59,共4页俞坚钢 姜宏伟 郑鹉 朱涛 
本文采用直流磁控溅射法制备了一系列Ni／Ti周期性多层膜，用X射线小角衍射进行周期结构分析。主要研究了不同的制备工艺条件下，Ni／Ti周期性多层膜周期厚度和界面粗糙度的变化规律，从而归纳出最佳的溅射工艺条件。研究发现采用移动...
关键词：直流磁控溅射 Ni/Ti周期性多层膜 X射线小角衍射 界面粗糙度 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部