韩卫敏

作品数:2被引量:1H指数:1
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供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所更多>>
发文主题:半导体集成电路金属介质层螺旋电感电阻损耗更多>>
发文领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>
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一种环形栅LDMOS器件的宏模型
《微电子学》2023年第3期500-505,共6页韩卫敏 刘娇 王磊 洪敏 朱坤峰 张广胜 
重庆市自然科学基金面上项目(CSTB2022NSCQ-MSX0254)
提出了一种适用于环形栅LDMOS器件的子电路宏模型。基于对环形栅LDMOS器件结构的分析,将环形栅LDMOS器件分为两个部分,一个是中间的条形栅MOS部分,使用常规的高压MOS模型;另一个是端头部分,为一个圆环形栅极MOS器件,采用了一个单独的模...
关键词:环形栅 LDMOS 宏模型 BCD工艺 
A/D与D/A转换器主流工艺技术现状和发展趋势被引量:1
《微电子学》2008年第6期800-804,810,共6页韩卫敏 杨永晖 
随着半导体技术的进步,对A/D、D/A转换器的性能提出了更高的要求,用于制作A/ D、D/A转换器的工艺技术也在不断改进。文章介绍了目前用于制作A/D、D/A转换器的主流工艺技术;结合相关产品,对比分析了各种工艺的优缺点,并对A/D、D/A转换器...
关键词:A/D转换器 D/A转换器 半导体工艺 CMOS BICMOS 
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