张剑东

作品数：1被引量：2H指数：1
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供职机构：苏州大学更多>>
发文主题：DLCSI薄膜共掺杂调制机理射频反应磁控溅射更多>>
发文领域：理学更多>>
发文期刊：《材料科学与工程学报》更多>>
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射频输入功率对DLC∶F∶Si薄膜结构和附着特性的调制机理被引量：2
《材料科学与工程学报》2017年第3期363-367,384,共6页吴伟 朱志鹏 张剑东 闵嘉炜 江美福 钱侬 
国家自然基金资助项目(11275136)
以SiC陶瓷靶为靶材,Ar和CHF_3为源气体,采用反应磁控溅射法在双面抛光的316L不锈钢基片上制备出了系列Si和F共掺杂的DLC∶F∶Si薄膜。研究了射频输入功率对薄膜的附着力、硬度和表面接触角的影响。结果表明,选取适当的输入功率(180W左右...
关键词：DLC∶F∶Si薄膜 射频反应磁控溅射 附着力 共掺杂 
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