江美福

作品数：26被引量：109H指数：5
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供职机构：苏州大学更多>>
发文主题：氟化类金刚石薄膜反应磁控溅射磁控溅射拉曼光谱光学带隙更多>>
发文领域：理学电子电信轻工技术与工程一般工业技术更多>>
发文期刊：《中文科技期刊数据库（文摘版）教育》《苏州大学学报（自然科学版）》《材料科学与工程学报》《微波学报》更多>>
所获基金：国家自然科学基金江苏省自然科学基金更多>>
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大学物理课程思政元素分类
《中文科技期刊数据库（文摘版）教育》2020年第11期103-104,共2页吴亮 江美福 罗晓琴 戴永丰 
依据功能侧重点的不同将“大学物理”课程思政元素分为四类共十个子类。分类有利于充分挖掘并合理分布思政元素。本文以“圆孔衍射”的教学为例介绍如何分类充分挖掘和融合思政元素。
关键词：课程思政 大学物理 元素分类 
射频输入功率对DLC∶F∶Si薄膜结构和附着特性的调制机理被引量：2
《材料科学与工程学报》2017年第3期363-367,384,共6页吴伟 朱志鹏 张剑东 闵嘉炜 江美福 钱侬 
国家自然基金资助项目(11275136)
以SiC陶瓷靶为靶材,Ar和CHF_3为源气体,采用反应磁控溅射法在双面抛光的316L不锈钢基片上制备出了系列Si和F共掺杂的DLC∶F∶Si薄膜。研究了射频输入功率对薄膜的附着力、硬度和表面接触角的影响。结果表明,选取适当的输入功率(180W左右...
关键词：DLC∶F∶Si薄膜 射频反应磁控溅射 附着力 共掺杂 
SiC过渡层制备温度对碳化硅/氟化类金刚石复合薄膜血液相容性的影响被引量：2
《物理学报》2014年第18期327-335,共9页佘清 江美福 钱侬 潘越 
国家自然基金(批准号:11275136)资助的课题~~
以316L不锈钢为基底,SiC晶体为靶材,Ar为源气体,采用磁控溅射法在不同温度下制备出系列SiC过渡层.然后以高纯石墨作靶,Ar和CHF_3为源气体,在同一工艺条件下再续镀一层氟化类金刚石(F-DLC)薄膜,形成SiC/F-DLC复合薄膜.研究表明,相比于F-...
关键词：磁控溅射 血液相容性 附着力 SIC F—DLC复合薄膜 
膜厚对AZO∶Si薄膜性能的影响
《材料科学与工程学报》2013年第4期529-534,597,共7页周杨 江美福 
国家自然基金资助项目(11275136)
近年来,Si基ZnO∶Al透明导电薄膜界面处Si的渗透对薄膜性能的影响引起了人们的关注。本文采用射频磁控溅射法,在石英和Si衬底上沉积了不同厚度的Al、Si弱掺杂(1wt.%)的ZnO薄膜(AZO∶Si),系统研究了膜厚(等价于Si的渗透深度)对薄膜电学...
关键词：AZO∶Si 磁控溅射 膜厚 电光性质 
SiC过渡层对氟化类金刚石薄膜附着特性的影响被引量：3
《物理学报》2013年第1期293-298,共6页潘越 赵强 江舸 周杨 江美福 杨亦赏 
采用射频反应磁控溅射法在316L不锈钢基片上分别沉积了两种薄膜:一种是氟化类金刚石薄膜(F-DLC),另一种是先镀上一定厚度的SiC过渡层再沉积F-DLC.着重研究了薄膜的附着力随过渡层制备条件的变化规律.结果显示,增加SiC过渡层后薄膜的附...
关键词：F-DLC SiC过渡层 红外光谱 附着力 
Si过渡层对氟化类金刚石薄膜附着特性的影响被引量：1
《苏州大学学报（自然科学版）》2012年第4期51-57,共7页杨亦赏 江舸 周杨 江美福 
国家自然科学基金(11275136;1075114)
研究了不锈钢基片上Si过渡层对F-DLC薄膜附着特性的影响.采用反应磁控溅射法,以Ar为源气体,在316L不锈钢基片制备了Si薄层,并在Si薄层上沉积了F-DLC薄膜,通过划痕实验测试了各个样品的膜/基结合强度.结果表明,引入Si过渡层可以明显增强...
关键词：磁控溅射 Si过渡层 氟化类金刚石薄膜 结合强度 
源气体流量比对氟化类金刚石薄膜蛋白吸附能力的影响被引量：5
《物理学报》2011年第11期681-687,共7页戴永丰 江美福 杨亦赏 周杨 
用316L不锈钢(SU316L)作基片,以高纯石墨作靶、CHF3和Ar作源气体,采用反应磁控溅射法在不同流量比R(CHF3/Ar)下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用双蒸水液滴法、BCA(二喹啉甲酸)法和傅里叶红外光谱(FTIR)探讨了影响薄膜蛋白吸附能力...
关键词：反应磁控溅射 氟化类金刚石薄膜 蛋白吸附 
退火温度对用PⅢ方法制备共掺杂p型ZnO薄膜结构和性能的影响被引量：2
《苏州大学学报（自然科学版）》2011年第1期52-57,共6页杜记龙 江美福 张树宇 王培君 辛煜 
国家自然科学基金(10635010)
采用射频磁控共溅射的方法制备出ZnO:Al薄膜,以NO和O2为源气体(V(O2)/V(O2+NO)=75%),采用等离子体浸没离子注入(PⅢ)方法对薄膜进行注入得到ZnO:Al:N薄膜,注入剂量为2.23×1015 cm-2,并在N2氛围下对样品进行了不同温度的退火处理.通过XR...
关键词：等离子体浸没离子注入 p-ZnO 磁控溅射 共掺杂 
注入剂量对离子注入法制备Al-N共掺杂P型ZnO的影响
《材料科学与工程学报》2011年第1期42-45,16,共5页杜记龙 江美福 张树宇 王培君 
采用射频磁控共溅射的方法制备出ZnO∶Al薄膜,以NO和O2为源气体(O2/O2+NO=75%)、等离子体浸没离子注入(PIII)方法在不同的工艺条件下得到了不同N+注入剂量的ZnO∶Al∶N薄膜,并在N2氛围下对样品进行了850℃退火处理。通过XRD图谱、霍尔效...
关键词：等离子体浸没离子注入 磁控溅射 共掺杂 p-ZnO 
射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究被引量：2
《物理学报》2010年第12期8920-8926,共7页王培君 江美福 杜记龙 戴永丰 
以高纯石墨做靶,CHF3和Ar气为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕仪、拉曼光谱和红外光谱、摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键结构以及摩擦性能做了具...
关键词：摩擦性能 射频反应磁控溅射 氟化类金刚石薄膜 
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