云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 氟化类金刚石薄膜

氟化类金刚石薄膜: 作品数：18被引量：48H指数：4; 导出分析报告; 相关领域：理学一般工业技术更多>>; 相关作者：江美福肖剑荣宁兆元杨亦赏戴永丰更多>>; 相关机构：苏州大学桂林理工大学中南大学华中科技大学更多>>; 相关期刊：《功能材料》《无机材料学报》《材料科学与工程学报》《中国学术期刊文摘》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划江苏省自然科学基金广西教育厅科研项目更多>>

SiC过渡层对氟化类金刚石薄膜附着特性的影响被引量：3: 《物理学报》2013年第1期293-298,共6页潘越赵强江舸周杨江美福杨亦赏; 采用射频反应磁控溅射法在316L不锈钢基片上分别沉积了两种薄膜:一种是氟化类金刚石薄膜(F-DLC),另一种是先镀上一定厚度的SiC过渡层再沉积F-DLC.着重研究了薄膜的附着力随过渡层制备条件的变化规律.结果显示,增加SiC过渡层后薄膜的附...; 关键词：F-DLC SiC过渡层红外光谱附着力

Si过渡层对氟化类金刚石薄膜附着特性的影响被引量：1: 《苏州大学学报（自然科学版）》2012年第4期51-57,共7页杨亦赏江舸周杨江美福; 国家自然科学基金(11275136;1075114); 研究了不锈钢基片上Si过渡层对F-DLC薄膜附着特性的影响.采用反应磁控溅射法,以Ar为源气体,在316L不锈钢基片制备了Si薄层,并在Si薄层上沉积了F-DLC薄膜,通过划痕实验测试了各个样品的膜/基结合强度.结果表明,引入Si过渡层可以明显增强...; 关键词：磁控溅射 Si过渡层氟化类金刚石薄膜结合强度

源气体流量比对氟化类金刚石薄膜蛋白吸附能力的影响被引量：5: 《物理学报》2011年第11期681-687,共7页戴永丰江美福杨亦赏周杨; 用316L不锈钢(SU316L)作基片,以高纯石墨作靶、CHF3和Ar作源气体,采用反应磁控溅射法在不同流量比R(CHF3/Ar)下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用双蒸水液滴法、BCA(二喹啉甲酸)法和傅里叶红外光谱(FTIR)探讨了影响薄膜蛋白吸附能力...; 关键词：反应磁控溅射氟化类金刚石薄膜蛋白吸附

氟化类金刚石薄膜介电性能研究: 《真空》2010年第5期49-52,共4页肖剑荣王德安梁业广; 广西教育厅科研资助项目(200807MS044);桂林理工大学博士启动基金资助项目(002401003252); 采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜。利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分和介电性能进行了表征、分析。结果表明：薄膜的介电常数εr在2.07~2.65之间,绝缘电阻在245 MΩ左右,击...; 关键词：氟化类金刚石薄膜离子体增强化学气相沉积绝缘电阻介电常数

射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究被引量：2: 《物理学报》2010年第12期8920-8926,共7页王培君江美福杜记龙戴永丰; 以高纯石墨做靶,CHF3和Ar气为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕仪、拉曼光谱和红外光谱、摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键结构以及摩擦性能做了具...; 关键词：摩擦性能射频反应磁控溅射氟化类金刚石薄膜

反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性的研究被引量：1: 《苏州大学学报（自然科学版）》2010年第2期66-72,共7页王培君江美福辛煜杜记龙戴永丰; 国家自然科学基金(10635010); 以高纯石墨做靶、CHF3/Ar为源气体采用磁控溅射法在不同射频功率条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕、拉曼光谱、红外光谱和摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键态结构以及摩擦学性能作了具体分析....; 关键词：摩擦性能射频输入功率反应磁控溅射氟化类金刚石薄膜

Effects of nitrogen content on structure and electrical properties of nitrogen-doped fluorinated diamond-like carbon films: 《中国有色金属学会会刊：英文版》2009年第6期1551-1555,共5页肖剑荣李新海王志兴; Project(70121)supported by the Postdoctoral Science Foundation of Central South University,China;Project(200807MS044)supported by Scientific Research Fund of Education Department of Guangxi Autonomous Region,China;Project(0710908-06-K)supported by theResearch Funds of Guangxi Key laboratory of Information Materials; Nitrogen-doped fluorinated diamond-like carbon(FN-DLC)films were prepared on single crystal silicon substrate by radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition(RF-PECVD)under different deposited conditions ...; 关键词：氟化类金刚石薄膜氮掺杂射频等离子体增强化学气相沉积电学特性结构氮素原子力显微镜红外吸收光谱

半导体技术: 《中国学术期刊文摘》2007年第10期143-144,共2页; ULSI用氟化类金刚石薄膜的研究,Ni-Al薄膜的制备和电性能研究,CMOS工艺片上传输线研究,基于神经网络模型的传感器非线性校正,激光直写凹球面网栅的电控实现……; 关键词：半导体技术氟化类金刚石薄膜 CMOS工艺神经网络模型 NI-AL 非线性校正 ULSI 激光直写

FDLC薄膜的化学结构对光学性能的影响被引量：1: 《应用光学》2007年第1期51-54,共4页刘雄飞张德恒齐海兵; 研究氟化类金刚石(FDLC)薄膜化学结构对光学性能的影响,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石(FDLC)薄膜,用俄歇能谱、傅里叶红外光谱(FT IR)、紫外-可见光分光光度计(UV-V IS)对薄膜进行分析。分析结果表...; 关键词：氟化类金刚石薄膜等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 光学带隙沉积温度

ULSI用氟化类金刚石薄膜的研究: 《电子元件与材料》2007年第1期30-32,共3页肖剑荣徐慧简献忠; 湖南省自然科学基金资助项目(05JJ40135); 以CF4和CH4为源气体，用射频等离子体增强化学气相沉积法，制备了氟化类金刚石（F-DLC）薄膜．采用FTIR仪、XPS对样品进行了测试、分析。结果表明，在薄膜内主要含有C-Fx（=1，2，3）、C-C、C-H2、C-H3等以及不饱和C=C化学键；薄膜的εr...; 关键词：半导体技术氟化类金刚石薄膜沉积功率介电常数

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