王安平

作品数：1被引量：7H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文主题：超声清洗表面活性剂硅片太阳能级更多>>
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太阳能级Si片清洗工艺分析被引量：7
《半导体技术》2010年第4期309-312,共4页任丽 王平 李艳玲 王安平 褚世君 张兵 李宁 罗晓英 
在实验基础上对太阳能级Si片碱性清洗工艺进行了分析,指出碱性清洗液在适宜的工艺环境下,配合超声清洗和表面活性剂的使用可以获得良好的清洗效果。结果表明,表面金属浓度分别达到Cu元素小于1.3×10^(14)atoms/cm^2,Fe元素小于5×10^(13...
关键词：硅片 碱性清洗 表面活性剂 超声清洗 对太阳能级 
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