朱斌

作品数：1被引量：1H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所更多>>
发文主题：衬底材料薄膜厚度光刻胶剖面更多>>
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不同衬底材料对光刻胶剖面的影响被引量：1
《电子与封装》2013年第8期37-39,共3页张世权 朱斌 顾霞 
文章研究了在127 mm硅片上分别生长金属铝和二氧化硅氮化硅叠两种IC常用材料作为衬底对光刻胶形貌的影响,其造成光刻胶形貌差的原因是金属底部反射率高导致光刻胶侧面曝光和入射光通过二氧化硅氮化硅叠层厚度的光程差正好为光源波长的...
关键词：光刻胶剖面 抗反射层 薄膜厚度 
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