张国栋

作品数：1被引量：1H指数：1
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发文主题：SI化学机械抛光抛光垫抛光使用期更多>>
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抛光垫使用期对300mm Si片Haze值影响研究被引量：1
《半导体技术》2008年第12期1084-1087,共4页索思卓 库黎明 黄军辉 葛钟 陈海滨 张国栋 盛方毓 阎志瑞 
抛光垫是化学机械抛光(CMP)过程中重要的消耗材料之一。由于抛光垫与Si片直接接触,所以抛光垫的物理特性会直接影响到所加工Si片品质的优劣。通过研究不同使用时间的抛光垫结构以及所抛光Si片表面haze值,发现抛光Si片表面haze值在抛光...
关键词：精抛光 抛光垫 化学机械抛光 HAZE 
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