陈文杰

作品数：1被引量：0H指数：0
导出分析报告
供职机构：北京大学微电子学研究院更多>>
发文主题：超浅结碳非晶化激光退火硼扩散更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《半导体技术》更多>>
所获基金：国家科技重大专项更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-1
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
预非晶化和碳共注入在超浅结工艺中的应用
《半导体技术》2016年第10期764-768,共5页许晓燕 陈文杰 刘兴龙 
国家科技重大专项资助项目(2011ZX02013-006)
针对纳米PMOS器件超浅结工艺面临的硼扩散问题,开展了预非晶化与激光退火和碳共注入结合的超浅结实验,通过透射式电子显微镜(TEM),二次离子质谱(SIMS),扩展电阻法(SRP)等测试对超浅结特性进行评估。结果表明,采用激光退火和碳共注入的...
关键词：预非晶化 激光退火 共注入 硼扩散 超浅结 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部